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用于半導(dǎo)體晶片檢測(cè)的日本非接觸式厚度測(cè)量?jī)x OZUMA CL

發(fā)布時(shí)間:2021-06-04 點(diǎn)擊量:1840

用于半導(dǎo)體晶片檢測(cè)的日本非接觸式厚度測(cè)量?jī)x OZUMA CL

 

半導(dǎo)體晶片(Si硅晶片、GaAs、砷化鎵Ga)、砷(As)、玻璃、金屬等。它是。OZUMA CL 非接觸式厚度測(cè)量裝置用于半導(dǎo)體晶片(Si 硅晶片、GaAs、鎵 (Ga) 砷 (As))背面拋光工藝或每個(gè)制造工藝中的厚度(厚度)控制。可用于晶圓(厚度)控制的非接觸式測(cè)量?!?/font>

分辨率為 0.01 μm。

由于是激光非接觸方式 ,因此無需擔(dān)心探針等劃傷被測(cè)物體。由于是非接觸式,因此可以對(duì)同一被測(cè)物進(jìn)行厚度(厚度)、翹曲度、平行度等重復(fù)測(cè)量。由于激光傳感頭上下相對(duì)放置,因此可以準(zhǔn)確測(cè)量厚度,而不受被測(cè)物體“滑行”引起的抬升的影響。

除了氣壓,我們還制造油壓、水壓等單元,各種定制測(cè)量?jī)x器(空氣、激光、光譜干涉儀、圖像等)和試驗(yàn)機(jī)(振動(dòng)、沖擊、耐久性等)。 . 如果您想自動(dòng)化人們目前正在做的工作,我們也期待收到您的來信。

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